Szampon oczyszczający Nº 4C Clarifying Shampoo

Water (Aqua/Eau), Sodium Lauroyl Methyl Isethionate, Cocamidopropyl Hydroxysultaine, Sodium Lauroyl Glutamate, Coco-Betaine, Disodium Laureth Sulfosuccinate, Acrylates Copolymer, Cocamidopropyl Betaine, Cocamidopropylamine Oxide, Sodium Methyl Oleoyl Taurate, Decyl Glucoside, Bis-Aminopropyl Diglycol Dimaleate, Sodium Lauryl Sulfoacetate, Phenoxyethanol, Coco-Glucoside, Lauryl Glucoside, Chlorphenesin, Panthenol, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Ethylhexylglycerin, Sodium Benzoate, Polyquaternium-11, Benzoic Acid, Sodium PCA, Pentasodium Triphosphate, Sodium Lactate, Arginine, Aspartic Acid, PCA, Citric Acid, Glycine, Alanine, Serine, Valine, Isoleucine, Proline,Threonine, Histidine, Phenylalanine, Fragrance (Parfum), Citral, Hexyl Cinnamal, Limonene.

Szampon oczyszczający OLAPLEX N°4C Bond Maintenance® wykorzystuje nową technologię dla zdrowszych włosów. Optymalizuje regenerację pasm, usuwając zanieczyszczenia, które je niszczą. W przeciwieństwie do innych agresywnych produktów oczyszczających, które wysuszają włosy, N°4C nie zawiera siarczanów, a jego zrównoważone pH dba o optymalne nawilżenie włosów.

Szampon oczyszczający OLAPLEX N°4C Bond Maintenance® oczyszcza, regeneruje i chroni.

Nagromadzenie zanieczyszczeń pochodzących z wody, kosmetyków do włosów, a nawet z powietrza, może pozostawiać niepożądane ślady. Pozostając na włosach, mogą one prowadzić do powstawania poważnych uszkodzeń, takich jak rozdwojone końcówki, łamliwość i puszenie się.

Szampon oczyszczający OLAPLEX N°4C Bond Maintenance® został opracowany z zastosowaniem systemu oczyszczającego o szerokim spektrum działania, który usuwa nagromadzone pozostałości produktów, nadmiar sebum, minerały z twardej wody, chlor, a nawet metale ciężkie i zanieczyszczenia środowiskowe, nie wysuszając przy tym włosów.

Szampon OLAPLEX nr 4C zawiera ten sam składnik aktywny, co wszystkie inne produkty OLAPLEX: dimaleinian bis-aminopropylo-diglikolu, który działa w celu odbudowy przerwanych mostków dwusiarczkowych.